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Alain Glachant
Alain Glachant
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Applied sciences
Materials science and engineering
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Etude de films ultra-minces de PTCDI et Pd(Pc) déposés sur les surfaces Pt(001), Pt(111) et Au(001) : application à l'hétérostructure métal/PTCDI/Pd(Pc)/métal
Etude des propriétés de films ultraminces d'oxynitrure de silicium de composition variable par greffage de monocouches organiques super-isolantes
Amélioration de la qualité de l'oxyde tunnel des mémoires EEPROM par nitruration sous N2O en four : influence du procédé de dépôt du siliciure
Oxynitruration de si(100)-(2x1) a temperature moderee par exposition au monoxyde d'azote et irradiation d'electrons de faible energie
Nitruration superficielle de SiO2 à basse température activée par des électrons de basse énergie
Stimulation superficielle de la réaction de nitruration de films minces de silice par voies : thermique, sous faisceau d'électrons, et plasma
Etude physico-chimique de la nitruration superficielle de films très minces de silice : application à la stabilisation électrique de l'interface SIO::(2)/SI(100) de structures M.I.S.-V.L.S.I