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researcher / Christophe Cardinaud

Christophe Cardinaud

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Disciplines:

Applied sciences

Chemical engineering

Materials science and engineering

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Directed Thesis:

Modélisation de la gravure profonde du silicium en plasmas fluorés : étude du procédé BOSCH : simulations et calibration expérimentale

Limites imposées par les procédés de gravure plasma lors de la réalisation d'une structure double damascène : rugosité en fond de ligne des diélectriques poreux et intégration des barrières auto-positionnées

Développement d'un procédé de dopage de matériaux semi-conducteurs par plasma : caractérisation du plasma et de son interaction avec les matériaux

Gravure et traitement par plasma de matériaux organosiliciés SiOC(H) pour des applications en lithographie avancée et comme isolant d'interconnexion en microélectronique

Etude des mecanismes de gravure du si a basse temperature par un faisceau plasma de sf#6 extrait d'une source d'ions a decharge micro-onde

Gravure du phosphure d'indium inp en plasma ch#4/h#2 pour les technologies micro-electroniques

Caractérisation par spectrométrie de photoélectrons des étapes de réalisations du transistor bipolaire a hétéro jonction gaalas/gaas, et en particulier de la gravure ionique réactive du contact ohmique Gemow sur gaas