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Elisabeth Blanquet
Elisabeth Blanquet
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Civil engineering
Materials science and engineering
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Sol-gel/ALD low temperature process : study of Al2O3 and codoped TiO2 nanostructures for photovoltaic applications
Etude de la condensation du SiGe pour l'élaboration de canaux contraints : application aux technologies CMOS avancées
Etude d'un procédé de dépôt de cuivre par MOCVD pour la réalisation de vias traversants à fort facteur de forme pour l'intégration 3D
Study of Thermal Oxidation of SiGe for Advanced CMOS FD-SOI Technologies
Etude des mécanismes de formation des contacts ohmiques pour des transistors de puissance sur Nitrure de Gallium
Stabilisation en phase quadratique de zircone déposée par PEALD : application aux capacités MIM
Sélection d'un précurseur pour l'élaboration de couches atomiques de cuivre : application à l'intégration 3D
Chimie de l'iode et composition des aérosols dans le circuit primaire d'un réacteur nucléaire en situation d'accident grave
Etude des dépôts par plasma ALD de diélectriques à forte permittivité diélectrique (dits "High-k") pour les applications capacités MIM
Etude thermodynamique et élaboration de dépôts métalliques (W-N-C, Ti-N-C) par PEALD (Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition) pour la réalisation d'électrodes de capacités métal / isolant / métal dans les circuits intégrés
Elaboration et caractérisation de couches de nitrure d'aluminium AlN par CVD haute température en chimie chlorée
Etude thermodynamique et experimentale du depôt ald (atomic layer deposition) de TaN et de son precurseur organometallique pdmat T, Ta[N(CH3)2]5, utilisé en microélectronique
Étude par spectrométrie de masse à détente supersonique du dégazage des bains d'aluminium liquide