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researcher / Olivier Pierre Etienne Joubert

Olivier Pierre Etienne Joubert

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Disciplines:

Electrical engineering

Industrial engineering

Physics

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Thesis:

Etude expérimentale de la gravure des polymères dans les plasmas multipolaires micro-onde à base d'oxygène et de SF6

Directed Thesis:

Développement de procédés de gravure à base de plasmas réactifs pulsés Pulsed plasmas for etch applications

Développement et caractérisation de procédés de gravure plasma de T.S.V (Through Silicon Via) pour l'intégration tridimensionnelle de circuits intégrés

Défis liés à la réduction de la rugosité des motifs de résine photosensible 193 nm

Etude et développement de procédés de gravure plasma pour l'élaboration des grilles métalliques pour les filières technologiques CMOS : cas de l'empilement Si/TiN/HfO2

Étude de l'intégration des matériaux à très faible permittivité diélectrique dans une structure damascène pour les filières technologiques CMOS

Analyse des mécanismes mis en jeu lors de l'élaboration par gravure plasma de structures de dimensions déca-nanométriques : application au transistor CMOS ultime

Etude et développement de procédés de gravure plasma pour l'élaboration de grilles silicium de dispositifs CMOS sub-20 nm

Etude et caractérisation avancées des procédés plasma pour les technologies sub-0. 1 um

Gravure de la grille en silicium pour les filières CMOS sub-0,1µm

Etude physico-chimique et electrique des contacts ito/silicium polycristallin pour la realisation de transistors en couches minces