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researcher / Farzaneh Arefi-Khonsari

Farzaneh Arefi-Khonsari

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orcid_id:

Disciplines:

Applied sciences

Chemical engineering

Natural sciences

Physics

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Directed Thesis:

Etude des mécanismes élémentaires du dépot de couches minces d'oxyde d'étain par le procédé PACVD

Comparaison de procédés de dépôt de couches minces semiconductrices à partir de précurseurs organométalliques : cas des réacteurs à flux alternes en phase vapeur (ALCVD) et réacteur plasma diode hors équilibre (PACVD)

Depot de couches minces d'oxyde d'etain pur ou dope par procede plasma cvd basse pression : caracterisation energetiques et reactionnelle de la decharge par techniques spectroscopiques et modelisation

Stabilisation des proprietes de surface du polypropylene par plasma de melanges helium et ammoniac en vue de la metallisation par l'aluminium

Procede plasma cvd de depot de couches d'oxyde d'etain pour l'elaboration de capteurs chimique. Etude comparative des reacteurs diode et triode sur les proprietes physico-chimiques des couches