Abstract FR:

Des films minces d’Aluminium ou d’Argent ont été formés par évaporation sous ultravide (p<5. 10⁻¹¹ Torr), sur l’une des faces d’un prisme utilisé pour exciter une Onde de Plasma de Surface (OPS) à l’interface plane film/vide, par la méthode de Réflexion Totale Atténuée (RTA). En déposant à la surface du film métallique une couche superficielle de Cs, puis de Cs oxydé, le travail de sortie électronique peut être abaissé jusqu’à une valeur voisine de 1 eV. Cette technique a permis d’étudier le renforcement très important de l’Emission Photoélectrique par l’OPS, aux fréquences inférieures à la fréquence de plasma de surface. Les propriétés optiques du système film métallique/couche superficielle, sont déterminées en mettant à profit la très grande précision de la méthode RTA. Nous montrons que dans le domaine spectral étudié, l’Emission Photoélectrique peut s’interpréter à partir des modèles classiques d’effet de volume et d’effet de surface.