Abstract FR:

Caractérisation de couches minces si et ge nanocristallines (microcristallines) déposées à l'aide de décharges luminescentes dans les mélanges (sih::(4), h::(2)) et (geh::(4), h::(2)). Le choix de h::(2) comme gaz porteur et le contrôle de la polarisation des supports permettent d'étudier deux types d'interaction à l'interface plasma solide : la gravure préférentielle de la phase amorphe résiduelle par l'hydrogène atomique et le bombardement de la surface par les ions positifs. Étude de l'histoire (germination et croissance) les films par ellipsométrie spectroscopique in-situ et conclusions qui peuvent en être tirées