thesis

Localisation electronique dans les amorphes metalliques : etude sous champ magnetique intense

Defense date:

Jan. 1, 1986

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Institution:

Toulouse 3

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Mesures de resistivite et de magnetoresistance sur divers alliages metalliques amorphes. Les resultats sont interpretes en termes de localisation faible, d'interactions interelectroniques et eventuellement de fluctuations supraconductrices. Dans le cas d'alliages supraconducteurs (lanthane-aluminium, lanthane-gallium, cuivre-zirconium), on discute les limites de validite des modeles theoriques actuels. Mise en evidence des effets de localisation sur la supraconductivite (vanadium-silicium) par des mesures de variation du champ critique avec la temperature. Pour ce qui est des alliages non supraconducteurs, l'analyse des resultats en champ magnetique fort permet une determination relativement precise des temps de relaxation inelastique et spin-orbite