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Diffusion superficielle de pb sur cu (100) et cu (510) entre zero et une monocouche : relations entre taux de couverture, surstructures et coefficient de diffusion

Defense date:

Jan. 1, 1992

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Institution:

Paris 7

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Des etudes sur l'influence de surstructures sur la diffusion bidimensionnelle ont ete menees sur le systeme plomb sur cuivre (100) et (510). Ce systeme est particulierement favorable car il ne presente ni diffusion du plomb dans le volume du cuivre, ni desorption dans la gamme en temperature etudiee (473-638 k), et enfin la croissance de l'adsorbat est d'abord bidimensionnelle puis tridimensionnelle. Les experiences ont ete conduites dans une enceinte a ultra-vide munie des techniques usuelles d'observation (del, auger), couplee a un accelerateur van de graaff de 2,5 mv. Les resultats experimentaux par retrodiffusion d'ions helium en geometrie de canalisation montrent d'une part que les surfaces (100) et (510) de cuivre sont legerement desorganisees sous un depot d'une monocouche de pb, et d'autre part que les atomes de pb sont faiblement relaxes de leur site. L'etude proprement dite de la diffusion (pour des taux de couverture compris entre zero et une monocouche) a conduit aux observations suivantes: croissance du coefficient de diffusion de pres de trois ordres de grandeur; diminution d'un ordre de grandeur pour un taux de couverture correspondant a la presence d'une surstructure c(44). Ces observations sont confirmees et expliquees a partir d'une part, d'un developpement theorique, et, d'autre part, a l'aide de simulations de monte-carlo. Dans les deux cas les interactions entre atomes d'absorbat sont repulsives en plus proches voisins. L'approche theorique est faite dans le cadre d'un modele de bethe-peierls, tandis que les simulations sont faites dans le cadre d'un modele d'ising a 2 dimensions