Abstract FR:

Variations de la microstructure, de la gravure chimique, de la texturation et de l'oxydation de couches deposees dans le domaine thermique 520-620**(o)c. Les resultats obtenus par tem,rheed, raman/reflectance uv, sont utilises pour mettre en relief les effets respectifs du support, de l'epaisseur et de la temperature de depot sur la microstructure des couches. Ces resultats sont ensuite exploites pour montrer les influences respectives des parties cristallines et zones de joints de grains (macles et/ou reseaux de dislocations) sur les mecanismes mis en jeu dans la gravure chimique (melanges hno3-hf) puis lors de l'oxydation thermique et enfin sur la qualite electrique des couches d'oxydes realisees sur ces depots