Abstract FR:

Les couches passives industrielles s'apparentent structurellement à un système multicouches d'oxyhydroxydes. Dans l'analyse de ces systèmes par spectroscopie de photoélectrons, notre contribution est double : d'une part, l'analyse de couches passives d'acier inoxydable industriel est fonction des possibilités de quantification de la méthode d'analyse ; nous montrons que la déconvolution simultanée des niveaux de coeur à haute et basse énergie cinétique et l'utilisation de facteurs de sensibilités à partir du libre parcours moyen calculé par Penn et la section efficace par Scofield permet une bonne approche semi-quantitative de ces multicouches d'hydroxydes et d'oxydes. D'autre part, l'approche inverse nous a permis d'étudier l'interface chrome sur fer silicium. Le substrat monocristallin FeSi (001) présente suivant la température de traitement thermique, une surstructure de Si ou de carbone. Par photoémission angulaire et diffraction d'électrons lents, nous mettons en évidence l'hybridation des niveaux (px, py) du C avec les niveaux d du Fe dans la surstructure C (2x2). Sur la surface reconstruite et enrichie en silicium, nous epitaxions du chrome (001) dans sa phase bcc. L'interface est abrupte en fer et chrome à température ambiante grâce au silicium. Le chrome obtenu par évaporation est antiferromagnétique et l'existence d'un état de surface intense atteste de la qualité cristalline du dépôt. L'oxydation de ce système permet d'isoler successivement les oxydes de Cr et Si les plus stables en fonction du traitement thermique, ainsi que de préciser l'effet catalytique du chrome sur l'oxydation complète du Si