Abstract FR:

La lithographie par ecriture directe presente de nombreux avantages pour la personnalisation, des circuits integres a applications specifiques, des circuits hybrides en couches minces, et de diverses microstructures de laboratoire. Un banc de photolithographie par faisceau laser helium cadmium est mis au point pour le developpement de telles applications. La caracterisation complete du faisceau le long de son chemin optique permet finalement de fournir un modele macroscopique de l'interaction laser/resine positive photosensible. La faisabilite de la methode est enfin demontree a partir d'applications representatives