Abstract FR:

Des plasmas de methane excites a 13,56 mhz et 25 khz, utilises pour le depot de couches minces de carbone amorphe hydrogene, ont ete etudies par sonde double et spectroscopie d'emission optique. Les depots ont ete caracterises par leur vitesse de croissance et la participation des ions a l'elaboration a ete evaluee par une sonde a grille. Ils ont ete observes en microscopie electronique en transmission et a balayage et en spectroscopie de photoelectrons x. Les resultats nous permettent de distinguer les deux regimes de frequence au niveau du plasma par les evolutions de la temperature electronique, des intensites des bandes des spectres d'emission optique et des vitesses de depot en fonction des parametres imposes puissance et pression