Abstract FR:

Par evaporation sous vide avec un laser pulse, on se propose de fabriquer des couches minces de materiaux varies et des multicouches utilisables pour la realisation de miroirs a rayons x-uv; les parametres pour la reflectivite des empilements que nous essayons d'ameliorer sont: la purete, l'homogeneite d'epaisseur, la compacite et la planeite des interfaces des differentes couches obtenues. Nous avons mis en place un dispositif qui utilise un laser nd-yag pulse ayant une densite de puissance au niveau de la cible superieure a 100 millions de watts par centimetre carre. Un deplacement dans deux directions orthogonales assure un balayage uniforme du faisceau de la cible. L'epaisseur des couches est controlee pendant le depot par une micro-balance a quartz. L'ensemble est gere par un micro-ordinateur permettant le pilotage automatique de la fabrication de couches simples et multicouches. Pour la plupart des materiaux etudies, les couches minces fabriquees ont une densite du materiau massif. La rugosite aux interfaces (c sur w par exemple) est souvent meilleure que celle obtenue dans le cas d'une evaporation thermique classique. Il reste a resoudre les problemes d'homogeneite d'epaisseur que nous avons mis en evidence. Les projections de gouttelettes de materiau durant l'evaporation posent un probleme, particulierement aigu dans le cas du silicium, ou la surface des couches presente des asperites sous forme de gouttelettes solidifiees