Abstract FR:

Dans le but de realiser des miroirs pour des longueurs d'onde comprises entre 2,36 nm et 4,47 nm, nous avons fabrique des multicouches periodiques a deux composants (w/b4c) de faibles periodes (environ 2,4 nm) deposees par pulverisation ionique. L'epaisseur des couches est controlee pendant le depot par reflectometrie de rayons x mous (longueur d'onde egale a 2,36 nm). Les performances des optiques x-uv dependent de la qualite des multicouches deposees et en particulier des defauts provenant soit du substrat soit du processus de depot. Pour caracteriser ces defauts (amplitude et longueur de correlation laterale) nous avons utilise deux methodes de mesure de diffusion des rayons x aux petits angles. Ces deux montages experimentaux dits a dephasage constant et a angle d'incidence fixe nous ont permis d'observer des structures sur les courbes de diffusion. Pour modeliser ces courbes nous avons choisi un modele qui consiste a representer les defauts par des dipoles fictifs. Dans tous les cas etudies: defauts de volume ou rugosites interfaciales correlees, c'est-a-dire reproduites de couche en couche, ou decorrelees les structures ont ete mises en evidence par le modele. Nous avons egalement montre que l'etude de la diffusion des rayons x rasants completee par d'autres methodes de caracterisation (microscopie a force atomique) permet d'obtenir des informations sur le spectre en frequences spatiales des rugosites et aussi de detecter la presence de couches d'interdiffusion entre les materiaux