Modelisation d'une decharge transitoire : application au laser hf photo-declenche et au panneau a plasma rf
Institution:
Toulouse 3Disciplines:
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Abstract EN:
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Abstract FR:
Le but premier de cette etude a ete realiser un modele numerique stable de decharge luminescente permettant des calculs rapides dans des conditions de forte conductivite du plasma. Ce modele doit etre auto-coherent, c'est a dire qu'il doit decrire le couplage entre les phenomenes de transport de particules chargees et le champ electrique. Il a ete teste et valide dans des conditions 1d et 2d et applique a deux exemples de decharges transitoires. Le modele 1d a permis d'etudier la formation du plasma dans un laser chimique hf. Le melange h 2/sf 6 employe dans ce type de laser permet d'obtenir de bonnes performances. Mais le plasma forme dans la cavite laser presente des instabilites formant un arc et reduisant ces performances. Au lpgp il a ete montre que le remplacement du h 2 par un hydrocarbure a plus d'un atome de carbone (c 2h 6) permet de les ameliorer. Le modele id du laser hf a permis d'etudier l'evolution transitoire de la gaine cathodique de la decharge et d'evaluer les risques de filamentation du plasma lies a l'emission de champ sur la cathode. Enfin, le modele 2d a ete utilise pour etudier l'evolution du plasma dans une cellule de panneau a plasma excitee par une tension radiofrequence. L'objectif etait de mieux comprendre le fonctionnement et les performances de ces cellules. Les panneaux a plasma alternatifs (pap ac) classiques (qqs 10 khz) sont etudies au cpat depuis plusieurs annees et sont en cours de developpement industriel. Mais les performances de ces pap doivent etre ameliorees pour les amener au niveau exige par la television grand public. L'etude faite ici porte sur une version radiofrequence (qqs 10 mhz) de ces ecrans (pap rf). Nos modeles ont permis de confirmer que l'on parvient alors a obtenir des efficacites de production de photons vuv de 4 a 5 fois plus elevees que dans les ecrans ac. Les problemes restant a resoudre concernent l'uniformite de la tension rf le long des lignes et des colonnes, et l'efficacite du couplage de puissance.