Etude par stm a temperature variable et kerr in situ de nanostructures de co/au(111)
Institution:
Université Louis Pasteur (Strasbourg) (1971-2008)Disciplines:
Directors:
Abstract EN:
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Abstract FR:
La croissance du cobalt sur la face (111) de l'or par epitaxie a jet atomique a ete etudiee pour des recouvrements compris entre 0. 3 et 6 monocouches (mc). Conjointement a cette etude de croissance, des mesures magnetiques ont ete realisees. La croissance ainsi que les mesures ont ete faites dans une enceinte ultravide. Le depot de co a ete caracterise par microscopie a effet tunnel, spectroscopie auger et diffraction d'electrons lents. Les mesures magnetiques ont ete faites in situ par effet kerr, ex situ par squid et magnetometrie a gradient de champ alternatif. Si le depot est realise a temperature ambiante, les coudes de la reconstruction en chevrons sont des sites preferentiels de nucleation pour les adatomes de co. En utilisant cette croissance particuliere, il est montre que pour des recouvrements inferieurs a la monocouche, le depot de co est un reseau d'ilots bi-couches, formes sur les coudes de la reconstruction. Pour un recouvrement d'environ 1 mc, les ilots coalescent, formant ainsi un reseau de chaines de cobalt. Pour des recouvrements superieurs, les chaines coalescent jusqu'a former un film granuleux mais continu pour 3 mc. Les proprietes magnetiques, pour ces differents recouvrements, sont simulees a l'aide d'un modele heisenberg anisotrope. L'effet d'un recuit a ete etudie sur les ilots et sur les films, montrant une diffusion du cobalt dans l'or. La croissance a basse temperature a ete etudiee pour des temperatures de depot comprises entre 30 et 250 k. Si cette temperature est inferieure a 50 k, le cobalt ne se nuclee plus sur les coudes de reconstruction, les ilots formes sont monocouches, autorisant ainsi une croissance quasi couche par couche. Une anisotropie magnetique planaire est mesuree pour des recouvrements superieurs a 1. 7 mc tant que la temperature reste comprise entre 30 et 250 k, juste apres depot. Au-dela de 250 k, l'axe d'anisotropie se reoriente perpendiculairement a la surface pour des epaisseurs inferieures a 5 mc.