Abstract FR:

La pulverisation cathodique est presentee comme une technologie alternative de l'evaporation sous vide pour le depot de couches minces optiques. Certaines caracteristiques d'oxydes obtenus par cette methode sont examinees pour differentes conditions de pulverisation. Des liens entre l'indice de refraction, l'indice d'extinction, l'inhomogeneite, la compacite des couches et des parametres de depot tels que pression de gaz, puissance electrique, temperature du substrat sont mis en evidence. A partir de ces resultats, des structures multicouches sont realisees. L'accord du calcul avec l'experience est considere et rapporte au controle d'epaisseur utilise et aux conditions de depot. La stabilite de la reponse spectrale des empilements obtenus est testee lors de transitions air/vide et comparee a celle de structures deposees par evaporation classique