Abstract FR:

Ce travail porte sur differents aspects de physique et de physico-chimie associes a la generation de poudres dans les decharges radiofrequences (rf) basse pression en melange argon-silane. Ce phenomene constitue une source de contamination reconnue recemment comme tres critique dans les procedes de traitement de surfaces utilises dans l'industrie de la micro-electronique (circuits integres) et de la macro-electronique (ecran plat de visualisation). Un reacteur, equipe d'un ensemble de diagnostics, a ete specialement concu pour cette etude. Il est decrit en detail dans la premiere partie de cette these. La seconde partie est consacree a l'etude de l'apparition et de la croissance des particules par microscopie electronique en transmission et a travers l'analyse de leur morphologie. Cinq differentes phases dans la croissance ont ete identifiees. Cette etude est completee par la mise en uvre d'un nouveau diagnostic, base sur l'evaporation par laser des particules, permettant la detection des premieres cristallites qui apparaissent dans le plasma. La troisieme partie est quant a elle devolue a la caracterisation du plasma en presence et en l'absence de poudres. De meme que nous avons focalise notre interet sur le comportement collectif du nuage de particules dans le plasma