Abstract FR:

Nous presentons une etude de la croissance de couches minces de l'oxyde supraconducteur a haute temperature critique bi#2sr#2ca#1cu#2o#8, deposees par ablation laser, l'objectif de ce travail etant une meilleure comprehension des processus de depot laser et de croissance ex situ. Paradoxalement, les parametres du laser influent peu sur les caracteristiques des films deposes. Les longueurs d'onde superieures ou egales a 1. 064 micrometre sont toutefois a proscrire, afin d'eviter l'ejection de particules de taille micronique. In situ, la formation des films est gouvernee par la pression d'oxygene et la temperature du substrat. Ex situ, la croissance est indissociable d'une forte rugosite de surface des films, due a une qualite cristalline mediocre et a la presence d'une impurete aciculaire. Lors du recuit, un refroidissement rapide conduit a la formation de films presentant une temperature critique elevee et un etat de surface perturbe. Les courbes de resistivite des films de bi#2sr#2ca#1cu#2o#8 ont ete analysees a l'aide d'un modele granulaire. Les resultats mettent en evidence la quasi-bidimensionnalite des supraconducteurs au bismuth et nous ont permis de demontrer le role critique de l'incorporation en oxygene. En conclusion, un processus de formation des couches qui pourra egalement etre applique a la realisation de films in situ est propose