Amplification de rayonnement x-uv : le schema de pompage par recombinaison dans les ions lithiumoides des plasmas produits par laser
Institution:
Paris 11Disciplines:
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Abstract FR:
Une part importante des travaux actuels consacres a la realisation d'un laser x-uv exploitent la recombinaison des plasmas produits par des lasers de puissance, au cours de laquelle des inversions de population peuvent apparaitre entre les niveaux excites d'ions multicharges. Ce travail est consacre a la modelisation numerique et la mise en uvre experimentale de ce schema de pompage, applique aux ions isoelectroniques du lithium. A l'aide d'un modele collisionnel radiatif et d'un code hydrodynamique, on etudie les conditions d'apparition des inversions de population et du gain dans un plasma d'aluminium (z=13). On montre l'importance particuliere sur ces inversions, de la dynamique de recombinaison des ions heliumoides, au cours du refroidissement rapide du plasma en expansion. Des taux effectifs sont calcules pour tenir compte de la contribution des niveaux excites lithiumoides dans cette recombinaison. La comparaison des gains calcules avec les resultats experimentaux montre un bon accord qualitatif. On presente une etude experimentale extensive de l'amplification de rayonnement a 105. 7 a (transition 5f-3d de l'ion al10+) dans des plasmas de forme allongee, de 1 a 6 centimetres de longueur. L'effet d'un miroir multicouche sur le rayonnement amplifie a cette longueur d'onde est mis en evidence. Le produit gain x longueur maximum mesure est de 4. Pour la meme transition, on mesure une amplification a une longueur d'onde plus courte (65. 2 a) dans un plasma de soufre (z=16)