Etude spectroscopique du plasma de décharge d'un laser à vapeur de cuivre
Institution:
Université Joseph Fourier (Grenoble)Disciplines:
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Abstract FR:
Le travail presente est une etude cinetique a l'aide de methodes spectroscopiques du milieu amplificateur d'un laser a vapeur de cuivre (lvc). Il s'inscrit dans le cadre general des travaux concernant la comprehension des phenomenes physiques gouvernant le plasma d'un lvc dans un but d'optimisation de la puissance optique et du rendement. Deux mesures ont ete developpees pour combler le manque de donnees experimentales sur le plasma d'un lvc: la mesure de densite electronique resolue temporellement et radialement par spectroscopie stark sur l'atome d'hydrogene, la mesure de la fonction distribution en energie des electrons par diffusion thomson incoherente. Associees a la spectroscopie d'emission, elles permettent de montrer que: la temperature electronique se relaxe rapidement vers la temperature du gaz et n'influe plus sur la vitesse de recombinaison des especes excitees en postdecharge, l'ionisation du cuivre se fait essentiellement par l'intermediaire d'especes tres excitees representant environ 30% de la population totale de cuivre. La recombinaison ionique se fait par les processus a 3 corps, totalement gouvernee par la densite electronique. Elle impose la vitesse de recombinaison aux especes excitees du cuivre en postdecharge. L'effet des gaz rares et de l'hydrogene a ete teste et montre la necessite d'abaisser la densite electronique pour ameliorer la puissance optique