Abstract FR:

Le sujet de la these est l'etude d'un type particulier de plasma d'oxygene cree par faisceau d'electrons (1 kev, 20 ma/cm#2), lueur negative d'une decharge luminescente en regime anormal. Il s'agit de tester les qualites de ce plasma en tant que source de deux especes actives de l'oxygene utiles dans les applications: l'oxygene atomique et l'oxygene moleculaire singulet. L'experience porte pour l'essentiel sur les mesures par spectroscopie d'absorption v. U. V. (120 nm a 150 nm) des concentrations de ces deux especes et sur l'enregistrement des profils spatiaux d'emissivite du plasma dans le visible (450 nm a 850 nm) dont sont tirees des informations sur la cinetique de leur production. Les faibles concentrations en oxygene singulet (1%) excluent definitivement ce type de decharge pour les applications au laser a iode. En revanche les concentrations mesurees de l'oxygene atomique (10%) en font un bon candidat pour l'oxydation de grandes surfaces par des faisceaux en nappe. La comparaison satisfaisante des resultats d'emissivite a un modele publie permet de confirmer le role preponderant des electrons rapides et de mettre en evidence un important effet de temperature. La valeur de celle-ci peut atteindre 1000 k, ce qui est coherent avec une mesure presentee