thesis

Résines photosensibles pour microlithographie développables par plasma oxygène : (étude et mise au point)

Defense date:

Jan. 1, 1986

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Institution:

Montpellier 2

Disciplines:

Materials chemistry

Authors:

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Abstract EN:

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Abstract FR:

Mise au point d'une resine microlithographique developpable par plasma oxygene contenant un polymere acrylique le polymethacrylate de trichlorophenyle et un compose photosensible de type diazide aromatique. Etude des mecanismes donnant la selectivite en plasma oxygene