Abstract FR:

L'ellipsometrie est une methode de caracterisation optique tres repandue. Ce travail relate la conception et la realisation d'un nouvel ellipsometre a modulation de phase fonctionnant dans le domaine spectral uv-visible. Il s'agit du prototype de l'appareil commercial uvisel de la societe jobin-yvon. Cet ellipsometre automatique combine la modulation haute frequence produite par un modulateur photoelastique a un traitement numerique du signal performant, base sur l'utilisation du microprocesseur dsp56001. Son caractere modulaire et compact est particulierement bien adapte a la caracterisation in situ de couches minces. L'ellipsometre a ete couple a un reacteur de depot de couches minces par plasma radiofrequence. Deux etudes par ellipsometrie sont appliquees a: a) la formation de siliciures de palladium, b) les interfaces entre le silicium amorphe hydrogene (a-si:h) et le nitrure de silicium (a-sin#x)