Abstract FR:

Dans le but d'evaluer les avantages et les inconvenients de differents procedes de depot de couches ultra-minces plus particulierement destinees aux miroirs a rayons x-uv, nous avons realise des depots de materiaux appropries (w, mo, ni, rh, si, c), en couches simples et multicouches (mo/si, w/si, rh/c), par deux procedes bases sur les faisceaux d'ions. Les couches sont controlees in-situ pendant le depot par reflectometrie de rayons x mous (4,47 nm ou 6,76 nm). La modelisation de ces courbes de reflectivite permet d'obtenir des courbes d'evolution de la rugosite avec l'epaisseur. Toutes les couches preparees par pulverisation par des ions argon presentent des rugosites de surface tres faibles, ce qui permet de realiser des miroirs pour rayons x mous a fort pouvoir reflecteur. Ce resultat est lie a l'accroissement de l'energie cinetique, et donc de la mobilite des particules deposees. En revanche, alors que les materiaux covalents, principalement le silicium, voient leur surface lissee par bombardement d'ions argon de faible energie (50 ev), l'etat de surface des couches metalliques est systematiquement degrade par le meme procede de depot. La possibilite d'usiner des surfaces optiques (verre, silice et germanium) par bombardement ionique, dans le but de mettre au point un procede d'aspherisation est abordee. Si la rugosite, mesuree sur un profilometre mecanique a stylet, des surfaces vitreuses se maintient a un tres faible niveau (0,2 nm), celle du germanium initialement plus elevee croit legerement sous bombardement ionique. La redeposition des particules pulverisees sur le masque d'usinage a ete observee hors de la partie utile des surfaces erodees