thesis
Depot et caracterisation de films minces de silicium sur substrat polymere par la methode cvd assistee par photons lumineux
Institution:
Université Louis Pasteur (Strasbourg) (1971-2008)Disciplines:
Directors:
Abstract EN:
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Abstract FR:
Le but principal de ce travail a ete d'examiner la possibilite de deposer des films de silicium ainsi que de silice sio2 par la methode appelee photon induced cvd. Notre objectif etait de deposer le silicium et la silice sur un substrat polymere. Nous avons choisi le polyphenilquinoxalin d'une part a cause de sa bonne stabilite thermique jusqu'a des temperatures de l'ordre de 300c et d'autre part pour son caractere non hygroscopique