thesis

Etude par diffusion raman de l'interaction phonon-porteurs libres dans les semiconducteurs dopes : application au gaas implante be ou epitaxie si

Defense date:

Jan. 1, 1986

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Abstract EN:

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Abstract FR:

Evolution des profils en fonction de la realisation de ces couches. Il est possible de determiner les caracteristiques de ces couches par une methode non destructive