Abstract FR:

Ce travail de these porte sur une etude experimentale de la formation d'ions negatifs lors de la diffusion d'ions ou atomes de h, o, f et cl sur des surfaces metalliques (mg, al et ag) et de silicium. La fraction d'ions negatif d'hydrogene mesuree sur les differents metaux est en bon accord avec les calculs cam. L'analyse theorique montre que la difference entre les fractions observees doit etre reliee aux caracteristiques de la bande de valence des metaux. Ces mesures ont ete etendues au cas de la formation d'ions negatifs d'oxygene, de fluor et de chlore. Une comparaison avec des modeles theoriques est presentee. Les fractions d'ions negatifs d'hydrogene et d'oxygene mesurees sur une cible de si sont de meme ordre de grandeur que celles obtenues sur l'aluminium. En outre, un effet dynamique de la capture d'electron a ete observe. Le transfert de charge dans ce cas est interprete en terme de transition non resonante, impliquant les bandes etroites liees aux etats de surface du si. Une etude de la formation de l'ion negatif d'hydrogene a ete realisee sur des surfaces de mg et al exposees a l'oxygene. Aux faibles expositions, le transfert de charge est interprete en terme de competition entre deux effets opposes: effet non local (reduction du travail de sortie) et effet local (modification de la structure electronique sur les sites d'adsorption de l'oxygene). Aux fortes expositions, la diffusion sur un solide ionique est a considerer. La forte production de l'ion negatif h dans ce cas est attribuee a un processus de capture d'electron non resonant impliquant le niveau de l'ion negatif de l'hydrogene et les sites des anions de l'oxyde