Abstract FR:

Explication du comportement inhabituel de certaines structures mos en dlts (non-saturation du spectre dlts pour un remplissage total de la densite d'etats d'interface) par une interaction par effet tunnel entre les porteurs libres du semiconducteur et les defauts des premieres couches d'oxyde (etats lents). Etude de la degradation des interfaces si-sio::(2) sous injection d'electrons chauds en comparant la cinetique de creation des etats lents et rapides. Etude des defauts induits par plasma ionique reactif