Abstract FR:

Ces travaux s'inscrivent dans un programme de developpement d'un nouveau type de reacteur de depot a basse pression utilisant un procede micro-onde (a 2. 45 ghz) base sur une structure d'excitation du type guide a fentes rayonnantes. Dans un premier temps nous avons etudie l'excitateur et une decharge d'argon entretenue par celui ci. Deux moyens de diagnostic in situ ont ete utilises: la spectroscopie d'emission et une technique de sonde electrostatique. Dans un second temps un tel excitateur d'une longueur d'un metre a permis de deposer une couche mince d'hexamethyldisiloxane (hmdso) polymerisee en post-decharge, homogene sur une grande surface (40 cm par 80 cm). Nous avons pu, au sein de notre reacteur grand volume (0. 5 m#3) caracteriser une decharge dans un melange hmds/argon par spectroscopie d'emission ainsi que les depots obtenus a l'aide des techniques d'ellipsometrie et d'absorption infra-rouge. Les resultats par spectroscopie montrent la presence de fragments excites dans le plasma: si, sio, ch, h, sih, h#2 et c#2. Ces derniers semblent etre principalement excites par double impact electronique pour une pression de l'ordre de 10#-#2 mbar. Les resultats de l'analyse des depots montrent que la vitesse de croissance depend de la puissance, de la pression, du debit du monomere, de la position des substrats et de la geometrie de la structure d'excitation micro-onde. Le couple (debit, pression) a entre autre une influence sur la polymerisation de la couche. Les depots obtenus sont resistants a une attaque chimique et permettent la protection d'une couche mince d'aluminium. Leur qualite de protection depend de l'epaisseur (quelques centaines d'angstrom), de la structure chimique (influence de la liaison si-h) et de la vitesse de depot