Abstract FR:

Developpement d'un plasma multipolaire micro-onde excite par resonance cyclotronique electronique; production a basse pression (0,1 pa), d'un plasma homogene de densite elevee avec des ions d'energie controlable de 1 a 100 ev. Caracterisation chimique (spectrometrie des electrons auger) et cristallographique (diffraction d'electrons lents) de la surface des substrats de silicium; etude de l'etat de surface apres interaction avec le plasma. Caracteristiques physico-chimiques et electriques des couches epitaxiques