Abstract FR:

Cette these presente une etude de la photoionisation des adsorbats atomiques et moleculaires deposes sur des substrats metalliques. Nos methodes ab-initio introduisent la retrodiffusion par les surfaces metalliques des photoelectrons. En particulier, pour la section differentielle de photoionisation, nous etablissons la relation entre la retrodiffusion et le dichroisme. Ce dichroisme de la distribution angulaire des photoelectrons est la difference entre les sections efficaces de photoionisation mesurees a deux polarisations de la lumiere. Nous avons etudie la photoionisation en couches de valence de co adsorbe sur des sites lineaires de surface de ni. Notre modele inclut l'interaction chimique adsorbat-surface comme une liaison unique avec l'atome du substrat le plus proche et la retrodiffusion par un potentiel marche sans structure. Les interferences dues a la retrodiffusion et la liaison chimique locale influencent considerablement la section efficace de photoionisation. Pour l'excitation de valence, nos calculs reproduisent les rapports de branchement experimentaux dans la region des resonances de forme de co. Pour l'excitation en couches internes de l'atome d'oxygene chemisorbe sur cu(001) nous avons explicitement introduit la diffraction des electrons sur les atomes du substrat. Contrairement a une idee generalement acceptee, la retrodiffusion des electrons sur les surfaces metalliques genere un dichroisme dans la section efficace de photoionisation. Ce dichroisme est due a la brisure de symetrie a la surface, mais il est independant de la nature de celle-ci. Il peut etre obtenu dans les deux modeles de retrodiffusion que nous avons developpe. Pour le modele introduisant explicitement les atomes de la surface, certains arrangements experimentaux non dichroiques presentent des effets dichroiques. Ce travail ouvre une nouvelle direction d'etude permettant une analyse plus fine des interactions adsorbat-surface