Abstract FR:

Nous etudions la structure electronique des disiliciures de fer, cobalt, nickel et yttrium dans la structure fluorine par la methode apw. L'hybridation silicium p metal d joue un role preponderant et determine deux types de comportement, d'un cote fesi#2, cosi#2 et nisi#2 et de l'autre ysi#2, selon la position relative du niveau d de l'element de transition et des energies de site sp du silicium. Les densites d'etats de cosi#2 se comparent tres bien aux spectres xps et sxes. Les structures de bande de liaisons fortes sont ensuite ajustees a celles obtenues en apw afin de determiner un jeu de parametres pour chaque compose. Une fois valides, les jeux de parametres sont utilises pour construire les hamiltoniens des interfaces cosi#2/si et nisi#2/si (111). Les interfaces sont traites avec une technique de decimation qui permet la determination de la barriere de schottky en calculant le potentiel de facon autocoherente. L'hybridation entre le dernier plan de silicium et le siliciure a l'interface joue un role fondamental. Elle determine deux comportements: dans la geometrie 8b, le niveau de fermi est fixe par les etats dans le gap conformement au modele idis. La barriere theorique est en bon accord avec les predictions du modele et les valeurs mesurees pour l'interface cosi#2/si. L'interaction silicium-siliciure a l'interface 7 est telle qu'il n'y ait plus d'etats dans la bande interdite. Cette interface sort du cadre du modele idis