Abstract FR:

La premiere partie de ce travail est consacree a l'etude du comportement electrochimique d'electrodes de tantale recouvertes d'un film d'oxyde de tantale tao#x en milieu acide sulfurique. Ces structures sont chimiquement inertes mais la cinetique de transfert de charges est completement bloquee en polarisation anodique. Au contraire, dans le cas des couches minces, ces structures peuvent etre utilisees comme materiau cathodique. La deuxieme partie du travail est consacree aux structures de type ta/tao#x/pt dans lesquelles le platine est depose par voie electrochimique ou par photoinduction. Les proprietes conductrices de ces electrodes sont tres ameliorees et sont similaires a celles du platine pur: leur comportement anodique est comparable a celui des dsa (dimensionally stable anodes). Ces deux types de structures ont ete caracterisees par des methodes physicochimiques d'analyse (esca, sem, tem); les proprietes electrochimiques ont ete determinees par voltammetrie cyclique et spectroscopie d'impedance. Pour chacune de ces deux structures, une modelisation des mecanismes de transfert de charges a ete proposee; les injections electroniques sont interpretees en terme de processus de transfert par effet tunnel via des etats intermediaires