thesis

Etude de la modification des surfaces de silicium et d'oxyde de silicium soumises a des plasmas de trifluoromethane et d'oxygene

Defense date:

Jan. 1, 1988

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Institution:

Nantes

Disciplines:

Chemistry

Authors:

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Abstract EN:

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Abstract FR:

Le but de cette etude est d'acquerir une connaissance approfondie du mecanisme d'interaction entre les plasmas de chf::(3) et d'o::(2) et les surfaces de si et sio::(2). Deux techniques experimentales ont ete utilisees : la spectrometrie de masse du gaz ionise et la spectrometrie de photoelectrons des surfaces apres traitement par plasma