thesis

Comportement electrochimique du niobrium et du tantale dans les bains de chlorures et chlorofluorures alcalins fondus

Defense date:

Jan. 1, 1991

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Institution:

Paris 6

Disciplines:

Abstract EN:

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Abstract FR:

Le comportement electrochimique du niobrium et du tantale, dans les bains de chlorures et chloro-fluorures alcalins fondus, a ete etudie au moyen des techniques impulsionnelles. Les mecanismes reactionneles et les proprietes physicochimiques des differents couples electrochimiques ont ete determines a partir de ces techniques. L'influence de l'addition d'ions fluorures et les consequences de la presence d'ions oxydes sur le deroulement des reactions d'oxydo-reduction ont ete examinees. Les etudes, utilisant les melanges licl-kcl eutectique et nacl-kcl equimolaire, ont montre que l'electrodeposition du niobium metallique doit etre effectuee a haute temperature (superieure a 650#c) dans un bain exempt d'oxydes contenant des ions fluorures tel que le melange nacl-kcl-k#2nbf#7. L'utilisation de ce bain a montre qu'il est possible de preparer des revetements de niobium adherents et compacts et de s'affranchir alors de l'utilisation des melanges constitues par des fluorures purs. Une autre consequence de l'elevation de temperature est l'apparition de carbures de niobium superficiels lorsque l'on opere sur une electrode de carbone vitreux. En ce qui concerne le tantale, les etudes effectuees dans le melange nacl-kcl-k#2taf#7 ont permis de preciser les meilleures conditions operatoires pour l'obtention de depots du metal. Cependant, l'utilisation de fortes surtensions (superieurs a 0,3 v) provoque une degradation du depot et l'apparition de composes dont l'identification est difficile. Il a ete montre que la formation de ces composes peut etre evitee par augmentation de la concentration des ions fluorures, par exemple en operant dans le melange ternaire nacl-kcl-naf