Les niveaux alluviaux quaternaires de la Meurthe et de la Moselle entre Baccarat et Coblence : étude morphosédimentaire et chronostratigraphique, incidences climatiques et tectoniques
Institution:
Paris 12Disciplines:
Directors:
Abstract EN:
The terrace system of the Meurthe and Moselle valleys consists in eight stepped levels situated between 0 and 90 m relative height. Their longitudinal profiles are parallel through the Paris basin and the rhenish Massif ; this demonstrates there was no relative uplift along the valley since the middle Pleistocene. The Upper-Moselle capture occured at the end of the sedimentation of PMM4 (OIS 8). The four post-capture levels PMM3 to PMM0 were respectively deposited during the Saalian (OIS 6), the Weichselian (OIS 4-3 and 2), and the Lateglacial (for the present floodplain). The sedimentation is cyclic : most of it occurs during fullglacial and lateglacial periods, with often a minor erosion at the beginning of lateglacial periods. The main erosion occurs during the warm-to-cold transitions.
Abstract FR:
Le dispositif alluvial de la vallée de la Meurthe en aval des Vosges, et de la Moselle au-delà de la confluence des deux rivières, comprend neuf niveaux étagés à moins de 90 m d'altitude relative. Leurs profils longitudinaux sont parallèles entre eux, ce qui démontre l'absence de soulèvement relatif le long de la vallée à travers le Bassin parisien et le Massif schisteux depuis le Pléistocène moyen. La capture de la Haute-Moselle a eu lieu à la fin de la mise en place du niveau PMM4 (stade isotopique 8). Les niveaux post-capture PMM3 à PMM0 correspondent à un niveau saalien (stade 6) et à deux niveaux weichséliens (stades 4-3, et 2), qui dominent le fond de vallée à remplissage tardiglaciaire. L'alluvionnement s'effectue suivant un cycle climato-sédimentaire, avec deux grands épisodes de dépôt (phases pléniglaciaires et tardiglaciaires), séparés par une phase d'érosion mineure. Le creusement majeur intervient lors du passage de conditions tempérées à des conditions périglaciaires.