thesis

Gravure du silicium face (100) sous SF6 stimulée par faisceau au laser CO2 et thermiquement activée

Defense date:

Jan. 1, 1986

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Institution:

Aix-Marseille 2

Disciplines:

Materials science and engineering

Authors:

Directors:

Abstract EN:

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Abstract FR:

Comparaison des possibilites entre la gravure par plasma et la gravure laser. Proposition d'un modele de gravure utilisant la decomposition thermique de la molecule de sf::(6). Nature de la composition chimique de la surface de si et de celles des parois du systeme experimental