thesis

Etude par rayons X rasants des effets de l'implantation de silicium dans le silicium et de fer dans un grenat

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Jan. 1, 1986

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Un faisceau x tombant en incidence rasante sur une surface polie est totalement reflechi. Une onde evanescente se propage alors dans le materiau avec une faible profondeur de penetration : on peut encore observer un rayonnement de fluorescence ou de diffraction mais l'epaisseur irradiee est tres faible (10nm). Mise en evidence des possibilites d'utilisation de cette technique de surface pour caracteriser les modifications par implantation ionique des 1000 premiers a d'un cristal a partir de l'exemple de l'amorphisation de si par implantation de si et de l'implantation du grenat al-y par fe