Abstract FR:

Les films minces du polymère ferroélectrique polyfluorure de vinylidène PVDF et du copolymère polyfluorure de vinylidène-trifluoroéthylène P(VDF-TrFE), dont l’épaisseur est de l'ordre du micron ou moins ont de nombreuses applications potentielles. La production et la caractérisation de tels films est abordée sous deux aspects: a) l’élaboration de films de structure contrôlée en utilisant une nouvelle technique: l’épitaxie par évaporation-cracking sur différents substrats et b) la polarisation de films réalisés par laquage. A) Quel que soit le substrat utilisé pour l’épitaxie, le PVDF cristallise en phase non polaire alpha avec le plan de contact (ac), les dipôles C-F2 étant orientés parallèlement au substrat. Sur le substrat ferroélectrique sulfate de glycocolle, les épitaxies sont différentes selon le signe du domaine: la présente méthode d’évaporation-cracking apparaît donc comme une nouvelle technique de décoration de ces domaines avec une résolution inhabituelle, de l'ordre de 10 nm. B) La polarisation ferroélectrique de films de copolymère P(VDF-TrFE) réalisés par laquage est mesurée par génération du second harmonique de la lumière. Cette technique possède l'avantage par rapport aux mesures diélectriques classiques de ne pas être sensible au déplacement des charges présentes dans le matériau. Les films polarisés font apparaître une direction de phase-matching qui correspond à une direction de propagation proche du plan du film. L’homogénéité spatiale de la polarisation ferroélectrique est évaluée en enregistrant des cartes de l’intensité de second harmonique; la stabilité en température de la polarisation est également étudiée. Les variations de l’intensité de S. H. En fonction du champ électrique de polarisation appliqué permettent de définir le cycle d’hystérésis de second harmonique ainsi que ses variations en fonction de la température.