thesis

Etude physico-chimique de la nitruration superficielle de films très minces de silice : application à la stabilisation électrique de l'interface SIO::(2)/SI(100) de structures M.I.S.-V.L.S.I

Defense date:

Jan. 1, 1987

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Institution:

Aix-Marseille 2

Disciplines:

Materials science and engineering

Authors:

Directors:

Abstract EN:

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Abstract FR:

Nous avons realise la nitruration superficielle de films minces de sio::(2) (130 a)/si(100) sous faibles pressions d'ammoniac p::(nh::(3)) par activation thermique (10**(-)6 mbar <p::(nh::(3))<10**(-1) mbar 850**(o)c<t<1150**(o)c) ou par bombardement electronique a t emperature ambiante. Etude comparative