Abstract FR:

L'objectif de cette etude est de caracteriser la morphologie de depots d'or d'epaisseur nanometrique obtenus par pulverisation ionique sur un substrat de carbone amorphe puis d'etudier les effets de l'assistance par des ions argon et krypton de forte energie ainsi que l'influence de l'incorporation de nickel dans les films. Les differents parametres morphologiques ont ete caracterises par microscopie electronique en transmission couplee a l'analyse d'image, diffraction des rayons x en incidence rasante et microscopie a force atomique. Au-dela d'une epaisseur deposee de 0. 2nm, les ilots sont de moins en moins nombreux tandis que leur surface projetee augmente. Cette evolution est regie essentiellement par un processus de coalescence dynamique et statique. Les petits ilots ont un aspect projete circulaire et une hauteur constante, leur forme 3d est entre le cylindre et le demi-ellipsoide de revolution. Les plus gros ilots ont l'aspect de batonnets, ils se forment par coalescence statique d'ilots circulaires.