Abstract FR:

Le travail rapporte dans ce memoire concerne l'etude des reactions a l'etat solide dans des multicouches al/co et la formation de films minces quasicristallins par cette methode. Les multicouches ont ete deposees par evaporation sequentielle sous vide des elements de base dans une large gamme de proportions atomiques (50-90 % at. Al) et de periodicites (epaisseur du motif bicouche al/co dans la gamme 30-300 nm). Les reactions initiees sous l'effet d'un chauffage (diffusion reactive) ont ete etudiees par differentes techniques d'analyse in situ et en temps reel : analyse calorimetrique differentielle, mesures de resistance electrique, diffraction de rayons x en rayonnement synchrotron. Une etude microstructurale et structurale a egalement ete menee par microscopie electronique en transmission et diffraction de rayons x. Les differentes etapes de reaction ont ete mises en evidence et analysees d'un point de vue thermodynamique et cinetique. Nous montrons que, quelles que soient les conditions experimentales, la premiere phase formee est le compose cristallin al#9co#2. Les tous premiers stades de reaction interfaciale sont analyses en termes de germination et croissance. La phase quasicristalline est la seconde phase formee par reaction entre al#9co#2 et le cobalt. Nous montrons qu'un film quasicristallin de bonne qualite est obtenu a la composition al#1#3co#4 et nous donnons les conditions de sa formation et de sa decomposition.