Abstract FR:

LE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR (CVD) DE CERAMIQUES A BASE DE CARBURE DE SILICIUM (SIC) A PARTIR DU MELANGE CH₃SiCl₃/H₂ A ETE ETUDIE POUR DES PRESSIONS TOTALES ET DES TEMPERATURES RELATIVEMENT BASSES (P0 KPA, T75C). L'INFLUENCE DU TEMPS DE SEJOUR DES GAZ DANS LA ZONE CHAUDE DU REACTEUR SUR LA VITESSE DE DEPOT DE SIC A ETE EXAMINEE. UNE TRANSITION ABRUPTE ENTRE DEUX CINETIQUES DE DEPOT DIFFERENTES (CORRESPONDANT AU DEPOT DE SIC OU DE SIC+SI), INDUITE PAR VARIATION D'UN PARAMETRE EXPERIMENTAL, A ETE DETECTEE. LA LOCALISATION DE L'EXCES DE SI DANS LE DEPOT A ETE ETUDIEE AU PLAN THEORIQUE ET EXPERIMENTAL