Abstract FR:

Les travaux présentés dans ce mémoire ont pour objectif d'optimiser le procédé de dépôt assisté par plasma micro-onde des couches de diamant sur alliage de titane. Des études fondamentales associant des caractérisations du plasma par spectroscopie d'émission et par spectrométrie de masse et des calculs cinétiques à l'étude des dépôts obtenus ont permis de déduire des conditions pouvant conduire à une augmentation de la vitesse de croissance à température modérée tout en conservant les propriétés intrinsèques des couches, notamment une faible rugosité de surface. L'adhérence de ces couches est également optimisée à partir de différents essais mécaniques (traction, rayure, indentation) et leurs propriétés tribologiques sont testées dans des milieux physiologiques en vue d'applications en biomécanique. Enfin, sur silicium, l'utilisation de ces couches a été envisagée pour des applications en électronique.