Etude des couplages aux interfaces dans des multicouches d'oxydes magnétiques
Institution:
Versailles-St Quentin en YvelinesDisciplines:
Directors:
Abstract EN:
The exchange coupled NiO/NiFe2O4 and NiO/NiFe bilayers are studied in this work. The characteristic of this kind of coupling is the displacement of the hysteresis loops by an amount termed exchange bias field. In the NiO/NiFe2O4 system we analysed the dependence of exchange bias upon the thickness of the films, the annealing field and the measuring temperature. The exchange bias observed in single NiFe2O4 films can be explained by a bad formation of the material when films are deposed at small energies. Pulsed laser deposition conditions influence the crystallographic structure of NiO films. In NiO/NiFe bilayers we observe a maximum of the exchange bias for (111) oriented samples. Blocking temperature is correlated with the deposition temperature of NiO films. Important relaxation effects are observed in these samples at room temperature
Abstract FR:
Le couplage d'échange établi dans les bicouches NiO/NiFe2O4 et NiO/NiFe est analysé dans ce travail. La caractéristique de ce type de couplage est l'apparition d'une polarisation d'échange, indiquant le "déplacement" du cycle d'hystérésis sur l'axe des champs. Dans le système NiO/NiFe2O4 on a étudié l'influence de l'épaisseur des couches, des conditions du traitement thermomagnétique et de la température sur la polarisation d'échange. L'observation d'une polarisation d'échange dans les monocouches NiFe2O4 est expliquée par une mauvaise formation du matériau quand le dépôt est réalisé à une fluence laser insuffisante. L'influence des conditions de dépôt sur la structure cristalline des couches NiO a été étudiée. Dans les bicouches NiO/NiFe la polarisation d'échange est favorisée dans les échantillons texturés (111). La température de blocage est déterminée par la température de dépôt des couches NiO. Importants effets de relaxation sont observés dans ce système à température ambiante.