Elaboration par pulvérisation cathodique réactive RF de multicouches nanométriques. Corrélation entre la structure, la microstructure et les propriétés mécaniques
Institution:
Evry-Val d'EssonneDisciplines:
Directors:
Abstract EN:
The aim of this work consists to performed by reactive sputtering RF nanomaterials : W, W-O, W-N single layers, W-O/W and W-N/W multilayers in order to study the microstructure, the structure and the mechanical properties of these thin films. A study of the growth of the single layers has been necessary to performed the multilayers. Various multilayer mechanical behaviors are obtained: - A Hall-Petch rule is observed for W-N/W multilayer performed with 50 % of nitrogen partial pressure. - For multilayer W-N/W and W-O/W performed with 10 % of nitrogen or oxygen partial pressure, there is no influence of the period thickness on the hardness values and these measurements are higher or lower than the law of mixture.
Abstract FR:
Les résultats présentés dans ce mémoire concernent l'élaboration par pulvérisation cathodique réactive RF de couches minces d'épaisseur nanométrique, ainsi que l'étude de leurs propriétés structurales, microstructurales et mécaniques. L'optimisation des paramètres de dépôt (pression d'argon, puissance de pulvérisation, et pression partielle de gaz réactif dans l'enceinte) des monocouches W, W-O, W-N a permis l'élaboration de multicouches nanométriques des systèmes W-O/W et W-N/W. Les propriétés mécaniques de ces multicouches ont été corrélées à leur microstructure. Divers types de comportements mécaniques sont observés : - Un modèle de Hall-Petch est observé pour les multicouches W-N/W élaborées avec une pression partielle d'azote de 50 %, - La dureté des multicouches W-N/W et W-O/W élaborées avec une pression partielle d'azote ou d'oxygène de 10 % n'est pas fonction de l'épaisseur de la période et est respectivement soit supérieure soit inférieure à la loi de mélange.