Abstract FR:

Des couches minces de silicium-carbone-germanium et de silicium-germanium sont obtenues par decomposition thermique de molecules organogermanosiliciees dans un reacteur de depot chimique en phase vapeur. L'etude de la stabilite thermique des precurseurs organometalliques en fonction de leur structure chimique, est menee par fragmentation en spectrometrie de masse et par analyse des gaz de pyrolyse. Les caracterisations chimiques et structurales de la phase solide montrent que suivant la structure chimique des precurseurs et la temperature de depot, des alliages amorphes ou polycristallins de silicium-carbone-germanium et silicium-germanium sont obtenus