thesis

‬Etude de la croissance en films minces de céramiques SiNxCy H par dépôts chimiques en phase vapeur à partir d'organosilazanes

Defense date:

Jan. 1, 1987

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Institution:

Toulouse, INPT

Authors:

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Abstract FR:

Etude du depot de ces couches a partir de : tris (tri methylsilyl) amine, bis (trimethylsilyl) amine et hexamethylcyclotrisilazane. Les proprietes des depots dependent des conditons experimentales : temperature, pression partielle d'hydrogene et nature du precurseur. Les proprietes optiques et les analyses ir indiquent que l'on obtient soit a-sic::(x): n(h), soit a-sin::(x): c(h). Presentation des resultats des caracterisations physicochimiques et de l'etude de la pyrolyse des precurseurs par chromatographie en phase vapeur. Discussion d'un mecanisme de decomposition thermique des precurseurs